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Iron sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.95% (metals basis)
Descrizione
Iron sputtering target is used in semiconductor, chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) display and optical applications.
This Thermo Scientific Chemicals brand product was originally part of the Alfa Aesar product portfolio. Some documentation and label information may refer to the legacy brand. The original Alfa Aesar product / item code or SKU reference has not changed as a part of the brand transition to Thermo Scientific Chemicals.
Specifica
Specifica
| Materiale o nome chimico | Iron sputtering target |
| Nota nome | 50.8mm (2.0 in.) dia. x 6.35mm (0.250 in.) thick |
| Quantità | 1 Ea. |
| CAS | 7439-89-6 |
| Note percentuale saggio | (metals basis) |
| Formula molecolare | Fe |
| Numero MDL | MFCD00010999 |
| Sinonimo | ferrum, iron, elemental, ferrous, remko, armco, ferrovac, hoeganaes eh, 3zhp, ancor b, atomiron 5m |
| Informazioni di solubilità | Insoluble in water. |
| InChI Key | XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N |
| Vedi altri risultati |
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